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                  硅片超聲波清洗機的清洗原理

                   更新時(shí)間:2024-03-28 點(diǎn)擊量:280
                  硅片超聲波清洗機的清洗原理主要依賴(lài)于超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進(jìn)流作用。具體來(lái)說(shuō),清洗機將電能轉化為機械能,使清洗槽中的液體產(chǎn)生高頻振動(dòng),形成聲波。當聲波作用于硅片表面時(shí),會(huì )在其表面形成微小的氣泡并迅速破裂,從而產(chǎn)生強大的沖擊力,將硅片表面的污垢和雜質(zhì)剝離并分散在清洗液中。
                  這些氣泡在液體中振動(dòng)并快速崩潰,產(chǎn)生微小的擦洗動(dòng)作,從而去除硅片表面的顆粒。這一過(guò)程稱(chēng)為空化作用,它有助于將污物層分散、乳化、剝離,達到清洗的目的。
                  此外,超聲波清洗機還包括超聲波發(fā)生器、清洗槽、輸送帶、過(guò)濾器、回收系統等部分。超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高頻振動(dòng),通過(guò)清洗槽傳遞到清洗液中。輸送帶將硅片逐一輸送到清洗槽內,而過(guò)濾器則用于過(guò)濾掉清洗液中的雜質(zhì)?;厥障到y可以將清洗液循環(huán)使用,減少浪費。
                  注意的是,使用超聲波清洗機前需要對硅片表面進(jìn)行預處理,如去除表面的油脂和松散物質(zhì),以確保清洗效果。此外,該清洗機不僅適用于硅片,還可用于清洗光學(xué)設備、塑料殘留物等其他材料,具有廣泛的應用范圍。

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